烤膠機是一種設計為準確控溫、真空吸附、高熱均勻性的高性能實驗室設備，可實現(xiàn)精密控溫烤膠操作。此機采用智能程序化控溫技術，控溫準均勻，加熱快速高效，維修簡單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻性要求高的實驗室。

　　烤膠機。(英文名: Hot Plate)又名烘膠臺，烤膠臺，加熱平臺，烤膠板，熱臺，熱板等用途可在光刻工藝中的涂膠后的軟烘，暴光后烘，顯影后的堅膜，磨片粘片熔臘等。產品采用整體鑄造，加熱板作為加熱體，增強了設備的安全性。采用單片機作為控制核心部件，有*精f準的控溫精度，緊湊美觀。該設備對一些溫度敏感材料(如晶體、半導體、陶瓷等）進行加熱和裝卡尤為適用。該設備結構簡單，操作簡便，安全可靠，是從事半導體熱處理.材料研究生產、溫度干燥試驗等不可少的工具。

　　烘膠臺可以用于光刻工藝中的前烘、中烘和后烘。該設備采用PID控溫系統(tǒng)自動測溫控溫，并具有兩段式自動升溫、烘膠速度快、均勻、控溫精度高等特點，可長時間持續(xù)穩(wěn)定工作。

　　烤膠機是一款緊湊且易于使用的光刻熱板。它用于光刻工藝的預烘烤，后烘烤和硬烘烤。該產品具有較高的烘烤速度，均勻性，較高的溫度控制精度和高度可重復的實驗結果。烘烤控制設計用于預烘烤，后烘烤和硬烘烤，以進行光蝕刻過程。

　　熱板與旋涂機或旋涂機一起使用，是在硅片或其他基板上制造金屬氧化物薄膜、聚合物涂層和金屬有機薄膜的理想工具。與傳統(tǒng)烤箱相比，使用加熱板固化薄膜將減少烘烤時間，提高可重復性，并獲得更均勻和更好的薄膜質量。這是因為在整個基材上具有均勻的溫度曲線，并為薄膜和涂層提供均勻的加熱。因為薄膜/涂層是從下往上加熱的，所以可以避免皮膚效應。